原理：

   1、配備了合適濾光器的氙弧燈在維護適當時(shí)，用來(lái)模擬日光中紫外區域和可見(jiàn)光區域的光譜能量分布。

   2、試樣暴露于不同等級的光、熱、相對濕度以及水的可控環(huán)境條件中。

   3、暴露條件因以下選擇而變化：

   a 濾光器；

   b 輻照度；

   c 光爆露過(guò)程中的溫度；

   d 當暴露條件需控制溫度時(shí)，在光照和暗周期過(guò)程中試驗箱的空氣相對濕度；

   e 試樣潤濕周期；

   f 水溫和潤濕周期；

   g 光照和暗周期的相對時(shí)間長(cháng)度。

   輻照度均勻性

   樣品暴露面上任一位置的輻照度至少應為該暴露面最高輻照度的80％，如果不能滿(mǎn)足此要求，應按ISO 4892-1 對暴露樣品進(jìn)行周期性換位。

   注：對于一些高反射率的材料，即使當暴露設備內的輻照度均勻性在極限范圍內而不要求周期性換位時(shí)，仍然推薦用周期性換位來(lái)確保樣品暴露的均勻性。